ChangFu® BEX12T: un polisilossano resistente agli agenti atmosferici e tenace, adatto alla polimerizzazione UV cationica

ChangFu Chemical ha lanciato un nuovo polisilossano reattivo bifunzionale ad elevata purezza con eccellente flessibilità, resistenza agli agenti atmosferici e bassa tensione superficiale-ChangFu^®BEX12T{1,5-Bis[2-(3,4-epossicicloesil)etil]-1,1,3,3,5,5-esametiltrisilossano; CAS: 150856-78-3}.Il suo esclusivo gruppo epossidico aliciclico, rispetto al tipo ordinario di etere glicidilico, mostra una maggiore attività di reazione di fotopolimerizzazione e una velocità di polimerizzazione più rapida sotto l'azione del fotoiniziatore cationico, e le sue prestazioni sono eccellenti nelle applicazioni di polimerizzazione UV cationica.

Caratteristiche del prodotto:

lEccellente resistenza agli agenti atmosferici:

L'effetto sinergico del silicone e della resina epossidica aliciclica fa sì che il rivestimento indurito abbia un'eccellente capacità anti-invecchiamento ultravioletto e anti-ingiallimento.

l    Proprietà reologiche e superficiali ottimizzate:

Può essere utilizzato come efficace livellante per migliorare l'aspetto e la levigatezza del rivestimento; le sue proprietà siliconiche apportano anche effetti idrofobici e antivegetativi.

l    Elevata reattività e velocità di polimerizzazione:

I gruppi epossidici aliciclici hanno un'elevata reattività e velocità di indurimento grazie alla tensione dell'anello, alle caratteristiche strutturali e alla polimerizzazione cationica.

Applicazione:

tu    Settore dei rivestimenti speciali:

1. Rivestimento a polimerizzazione rapida: adatto per settori ad alta efficienza produttiva, la sua bassa viscosità aiuta a ottenere un buon livellamento e una superficie estremamente lucida.

2. Rivestimento protettivo ad alte prestazioni: con eccellente resistenza al calore, resistenza chimica e isolamento elettrico dopo l'indurimento, può essere utilizzato per l'inchiostro resistente alla saldatura di circuiti stampati (PCB) e rivestimento protettivo temporaneo di componenti elettronici.

tu    Resina fotopolimerizzabile per stampa 3D:

Essendo un componente chiave della resina cationica per stampa 3D fotopolimerizzabile, può ridurre significativamente il ritiro da polimerizzazione, migliorare notevolmente la precisione delle dimensioni di stampa, ridurre lo stress interno e prevenire efficacemente la deformazione e la deformazione del modello.

tu    Agente rinforzante e antistress:

Se aggiunto al sistema UV cationico a base epossidica, il suo segmento di catena siliconica flessibile può disperdere efficacemente lo stress durante il processo di fotopolimerizzazione, migliorare la flessibilità e la resistenza agli urti del rivestimento ed evitare problemi di fessurazione o desquamazione causati dalla fragilità su substrati duri come metallo e vetro.

ChangFu^®BEX12T è un additivo siliconico reattivo progettato per sistemi di polimerizzazione UV cationici ad alte prestazioni.Combina perfettamente la flessibilità e la resistenza agli agenti atmosferici del silicone con l'indurimento rapido e l'elevata resistenza al calore della resina epossidica aliciclica ed è la scelta ideale per risolvere i problemi di grande fragilità, scarsa adesione e insufficiente resistenza agli agenti atmosferici dei tradizionali materiali UV.

Per ulteriori informazioni su prodotti e applicazioni, contattare:

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Parole chiave:Silossano reattivo;CAS: 150856-78-3;1,5-Bis[2-(3,4-epossicicloesil)etil]-1,1,3,3,5,5-esametiltrisilossano;Polimerizzazione UV cationica.